一台pecvd设备的个头是相称大的，也是统统三种设备中个头最大的。李想拿出来的这套设想图纸，如果一机床能够造出来的话，那么这个大师伙将会具有7.8米的宽度，10.8米的长度以及3.2米的高度，而它的总重量也会达到可骇的53吨！
归正这辈子中原也要和曰本以及棒子国争夺tft-lcd行业的霸主职位，并且现在中原掉队曰本并不远，以是李想干脆也不玩那些虚的了，直接就在2代线上主推出pecvd设备。基于其他两种技术的cvd设备李想一样也会拿出来的，至于小曰本如何挑选，那就是小曰本你们自个儿的事情了，别到时候给小曰本留下甚么把柄。
装载腔内里有二十个格子，内里能够一次性盛放二十片基板，全部装载腔是真空环境，一个真空泵和一个大气罗茨泵在基板放好了，舱门封闭以后，能够将全部装载腔内的氛围抽出。在装载腔的内部有和腔室底部的波纹管相通的氮气管道，是用来节制腔室内基板安排的高度的；另有排气管道，是用来规复大气状况的，别的另有皮拉尼真空计和b-a真空计。
传送腔，内里的首要部件就是一个真空机器手，在内里另有两个大气机器手，这类机器手实在很简朴，由支架、碳素钢叉和导轨构成的。支架上面有十层碳素钢叉，为了包管基板的安稳，每层的碳素钢叉有四根，如许一个支架上面就是足足四十根碳素钢叉。之以是采取了碳素钢，就是为了增加支架的刚度，减少基板和叉子的下垂度，毕竟一片玻璃基板的重量也是很大的。
现在李想更存眷的是，一机床这个欢迎自个儿的出产厂长另有阿谁总工能不能将这套图纸胜利的转化成为真正的设备。
至于最首要的工艺室，内里的设想就更庞大了。一个工艺腔是由十个反应室和十个冷却箱构成的，各自之间通过搭钮相互连接，详细的布局就是一层冷却箱一层反应室然后再一层冷却箱，如答应以包管充分的冷却。反应室的门是由弹簧和铝金属板构成的，通过弹簧将铝金属板压在腔上，保持封闭状况，以减少工艺腔的泄漏率。
实际上，在宿世tft-lcd液晶面板出产线中利用的cvd技术和设备最多的是pecvd，也就是等离子加强化学气相堆积法，因为不管是常压化学气相堆积法，还是高压化学气相堆积法，在实际利用中的用处都不是很大，这主如果因为后代的tft-lcd液晶面板所用的玻璃基板多数是碱性玻璃的原因，因为不管是常压化学气相堆积法还是高压化学气相堆积法，在镀膜的时候都分歧用于碱性玻璃，虽说在前几代线的时候还能用得上，但跟动技术的不竭生长，这两种cvd技术的范围性就凸显了出来，毕竟这两种技术只能伶仃的针对某一个镀层，是以在后几代线中，这两种cvd技术和设备根基上就用不到了
除了这些首要的腔室以外，这个大师伙还集成了供气体系、排气体系、除害体系、水循环体系以及一些附件。总得来讲，是一套比较庞大的设备。但这套设备对于加工精度的要求并不是那么高，比起前段时候一机床给宏达电子加工的那台内存颗粒触点措置机来，这套pecvd设备的加工精度要差的远了。
比拟于pecvd设备，别的两种cvd设备无疑要简朴了一些，是以只要能够制造出合格的pecvd设备来，那么别的两种设备天然是手到擒来的事情。以是，李想和宏达电子机修部的主任刘志此次来到一机床，拿的就是pecvd设备的图纸。
鞠躬感激（稻草人）大大100的打赏。
没有体例啊，因为统统的镀膜事情都会在这个大师伙的内部产生的，并且镀膜的时候对于无尘环境的要求极高，是以这个大师伙有很大一部分都属于高干净度的干净室乃至是真空环境。再加上事情腔在停止反应的时候，会产生极大的热量，是以光是冷却部分，也要占有极大的空间。
即便是小曰本现在已经获得了专利受权，但他们造出来的设备要想达到可控状况，还必必要颠末调控，这类调控是有诀窍的，你不失利个几百上千次，你绝对是把握不住这内里的诀窍的。而李想恰好就因为宿世和刘军的干系，晓得了如何对pecvd设备中反应室的反应过程停止可控的诀窍，是以李想才有掌控让小曰本乖乖的来买自个儿的设备。
当然，pecvd设备的售价也要比其他两种cvd设备的售价略微高上那么一点儿。其他两种cvd设备的售价均为1000万美圆一套，而一台pecvd设备的售价是1100万美圆！
虽说从技术上来讲这个过程在这套设备中是可控的，但只要完整把握了这套技术的人，才气够将这个反应过程节制住。如果你吃不透这套技术的话，那么你出产出来的设备就没法将这个过程可控。
而等离子加强化学气相堆积法例没有这类范围性，最关头的是，这tft-lcd液晶面板制程中所需求的四层非金属镀膜，都能够用pecvd来处理，是以在宿世，5代线以后的cvd设备，多数是采取pecvd技术而制造的cvd设备了。
这个大师伙首要有五个事情室构成的，这五个事情室中有两个是工艺室，是专门用于给玻璃基板停止镀膜反应的反应腔，另有一个是装载腔，是用来装载玻璃基板的；一个传送腔，是用来把装载腔的玻璃基板传送到工艺室中停止镀膜反应的；最后一个就是卸载腔，服从就是将反应完成的玻璃基板卸载出设备的。
技术是技术，要把技术转化成为真正的产品，并不是那么轻易就能做到的。
宿世天下上最大的两家cvd设备制造商，一个是美国应材公司部属的曰本子公司akt,一个也是一样来自于曰本的曰本真白技术株式会社，也就是ulvac。这两个公司一个天下排名第一，一个天下排名第二，几近把持了环球的cvd设备制造，由此可见小曰本的气力还是非常强大的。
当然，在最关头的反应室调控方面，李想还得专门培养几个工程师，用来专门停止调控的！
毕竟这玩意儿的首要感化是用来停止离子反应的，而不是和内存出产线中的内存颗粒触点措置机那么要求事情精度的，是以这套设备的加工工艺并不难。
当然在目前，除了李想晓得这个事情以外，其他的人还并不晓得这类事情，是以包含曰本人在内，都以为这三种cvd技术是必不成少的。不过，此次李想倒是发了善心，毕竟小曰本此次很风雅，不但同意了本来打算中的2代线，并且还附带了一条玻璃基板出产线，同时小曰本还同意从将来实业采购cvd设备。最关头的是，据李想所知，小曰本在获得了那三套cvd技术以后，立即就开端构造相干职员停止技术攻关，试图本身来制造cvd设备，只不太小曰本仿佛并不晓得pecvd才是最关头的设备，是以他们是三种设备一起研发，导致了团体研发过程的迟缓。
咱三种设备都有，并且给你们保举的是pecvd设备，你们非要自个儿全都买，等你们发明其他两种cvd设备不是很合用以后，那可就别怪哥们了。谁让你们不听哥们的保举呢！
十个反应室是平行并列的，是以能够同时停止四层膜的反应，而不会产生交叉净化。只不过，每个反应室内部的高度都不是很高，只要不到30毫米的高度，是以在装卸基板的时候必必要谨慎，制止基板遭到伤害。
这套设备之以是能卖出天价来，首要就是内里的核心反应室的设置，也就是工艺气体进入到反应室以后的反应过程。参与离子反应的工艺气体，按照分歧的镀膜需求，是要选用分歧的工艺气体的，硅烷、磷烷、氨气、笑气、氮气、氢气，每一种工艺气体在反应室里的加温温度都是不一样的，所产生的等离子状况也是不一样的，产生的镀膜结果也是不一样的。
究竟上这套图纸刘志已经送过来快一个礼拜了，一机床的工程师在保密的前提下颠末端好几天的攻关，总算是给了李想一个对劲的答案，那就是他们能够将图纸上的东西变成真正的设备！
恰是因为如此，李想才可贵的发了一次善心，筹算直接将pecvd设备卖给小曰本。毕竟以小曰本的气力而言，迟早也会发明其他两种cvd技术的不敷之处，从而开端用心研讨pecvd技术。这是迟早的事情，不过再晚，小曰本也会走到宿世的门路上去的。
这两天在忙活公司停业执照年审，以是更新能够有点不普通，还请谅解。
对于这一点，李想是毫不思疑的，因为宿世和刘军谈天的时候，刘军曾经给他讲过这方面的事情。当时即便是利用于tft-lcd工艺制程中的cvd设备的研发者――akt公司，也是颠末端好长时候的尝试以后，才完整掌控了这套技术，并把握了此中的关头诀窍。现在换成曰本的那些液晶面板出产商，他们的技术恐怕还不如akt公司的技术职员呢！
这个尺寸提及来有些恍惚，换算成一下实际的，那就是大师伙儿应当都见过平房吧，就是那种宽3.5米，长大抵在5.5米摆布的平房，差未几四间这么大的平房才气够摆下这么一个大师伙！